东弘二氧化硅抛光液是以高纯度硅粉为原料，经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品。广泛用于多种材料纳米级的高平坦化抛光。如：硅片、化合物晶体、精密光学器件、宝石等的抛光加工。

根据不同的抛光要求可分为不同粒度（10~150 nm）的产品。根据pH值的不同可分为酸性抛光液和碱性抛光液。

东弘二氧化硅抛光液的特点：

1、高抛光速度，利用大粒径的胶体二氧化硅粒子达到高速抛光的目地.

2、粒度可控，根据不同需要，可生产不同粒度的产品（10-150 nm）

3、高纯度（Cu含量小于50 ppb），有效减小对电子类产品的沾污.

高平坦度加工，本品抛光利用SiO2的胶体粒子，不会对加工件造成物理损伤，达到高平坦化加工.

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